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    熒光分析X射線管

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    熒光分析X射線管

    發布日期:2018-05-29 作者: 點擊:

      當樣品中的元素暴露于高強度X射線源時,熒光分析X射線管放射的射線將在這些元素特有的能級上從樣品發射。

      所有XRF光譜儀的基本概念是光源、樣品和檢測系統。源照射樣品,檢測器測量從樣品發射的熒光輻射。在大多數情況下,XRF源是X射線管。替代物是放射源或同步加速器。XRF儀器有兩種主要類型:能量色散X射線熒光(EDXRF)和波長色散X射線熒光(WDXRF)。

      X射線熒光(XRF)是一種強大的定量和定性分析材料的元素分析工具。它理想地適合于測量膜厚度和組成,測定固體和溶液重量的元素濃度,并鑒定復雜樣品基質中的特定和微量元素。XRF分析廣泛應用于許多行業,包括半導體、電信、微電子、金屬精加工和精煉、食品、藥品、化妝品、農業、塑料、橡膠、紡織品、燃料、化學品和環境分析。該方法快速、準確、無損,通常只需要少量的樣品制備。

      X射線光學可用于增強兩種類型的XRF儀器。對于傳統的XRF儀器,樣品表面典型的焦斑尺寸范圍從幾百微米到幾毫米。聚毛細管聚焦光學裝置從發散X射線源收集X射線并將其引導到樣品表面上的小聚焦光束,其直徑為幾十微米。所產生的增加的強度,傳遞到樣品中的一個小焦斑,允許增強的空間分辨率,用于微量特征分析和增強的性能,用于微量元素的測量,用于微X射線熒光應用。雙彎曲晶體光學將強微米大小的單色X射線束引導到樣品表面,用于增強元素分析。


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